Memahami pendekatan konsentrasi ruang bersih

Telusuri asumsi dari kelas ISO dan aliran udara ke bawah hingga D0 lingkungan dan estimasi yield.

Input ruang bersih pada Dari desain ke wafer menghubungkan kelas ISO dan aliran udara ke bawah dengan estimasi kepadatan cacat dan yield. Di Cloud dan aplikasi Windows, penggeser yang terhubung menggunakan lingkungan pabrik referensi; pratinjau tata letak impor memiliki lingkungan terpisah. Lihat Buka pabrik referensi di vFactory untuk membuka contoh.

Memahami pendekatan konsentrasi ruang bersih

  1. Lingkungan ruang bersih · Asumsi

    Kelas ISO · Asumsi

    Ambang D (µm)

  2. Pendekatan Cn (partikel/m³)

    Cn = 10^N × (0.1/D)^2.08

  3. Partikel terdeposisi/cm²

    Aliran turun (m/s)

    Kecepatan pengendapan (m/s)

    Paparan (s)

    Fraksi deposisi (0–1)

  4. D0 lingkungan (cacat/cm²)

    Fraksi cacat fatal (0–1)

Dari konsentrasi ke deposisi

Perhitungan menggunakan Cn = 10^N × (0.1/D)^2.08 partikel/m³. N adalah kelas ISO. D adalah ambang ukuran partikel dalam µm: Cn mewakili partikel dengan diameter setidaknya D. Perhitungan menggunakan satu ambang kumulatif, sehingga populasi yang tumpang tindih antarambang tidak dijumlahkan.

Partikel yang terdeposisi/cm² = Cn × (aliran udara ke bawah + kecepatan pengendapan) × paparan × fraksi deposisi ÷ 10000. Kedua kecepatan dalam m/s dan paparan dalam detik. Pembagi mengonversi meter persegi menjadi sentimeter persegi.

D0 lingkungan = partikel yang terdeposisi/cm² × fraksi cacat fatal. Model menambahkan kontribusi ini ke D0 pengguna (cacat/cm²) · Asumsi untuk memperoleh D0 total (cacat/cm²).

Baca input dan estimasi

Kontrol yang terhubung mengizinkan kelas ISO bilangan bulat 1–9 dan aliran udara ke bawah 0–1 m/s. Input kelas ISO independen dapat mencakup nilai pecahan dalam 1–9. Ambang D (µm) menerima 0.1–5 µm. Kecepatan pengendapan dan paparan bersifat nonnegatif; fraksi deposisi dan cacat fatal berada pada rentang 0 hingga 1.

Probabilitas Poisson, Murphy, dan binomial negatif menggunakan luas die aktif dalam cm² dan D0 total dalam cacat/cm². Perkiraan die baik sama dengan wafer selesai × die per wafer × setiap probabilitas yield.

Tafsirkan perubahan lingkungan

Mengubah penggeser yang terhubung menghitung ulang estimasi ini pada lot simulasi yang sama. Waktu siklus dan waktu penyelesaiannya tetap sama.

Pabrik referensi dan nilai lingkungannya merupakan asumsi ilustratif. Kelas ISO memberikan pendekatan konsentrasi, bukan distribusi partikel terukur atau sertifikasi. Pemetaan lingkungan ke D0 belum dikalibrasi; probabilitas yield dan perkiraan die baik merupakan estimasi, bukan hasil produksi terukur.