Entender a aproximação de concentração da sala limpa

Acompanhe as hipóteses desde a classe ISO e o fluxo descendente até as estimativas de D0 ambiental e rendimento.

Os dados de entrada de sala limpa em Do projeto ao wafer relacionam a classe ISO e o fluxo descendente às estimativas de densidade de defeitos e rendimento. No Cloud e no aplicativo do Windows, os controles deslizantes vinculados usam o ambiente da fábrica de referência; as prévias de leiautes importados têm um ambiente separado. Consulte Abra a fábrica de referência no vFactory para abrir o exemplo.

Entender a aproximação de concentração da sala limpa

  1. Ambiente de sala limpa · Hipóteses

    Classe ISO · Hipótese

    Limiar D (µm)

  2. Aproximação de Cn (partículas/m³)

    Cn = 10^N × (0.1/D)^2.08

  3. Partículas depositadas/cm²

    Fluxo descendente (m/s)

    Velocidade de sedimentação (m/s)

    Exposição (s)

    Fração de deposição (0–1)

  4. D0 ambiental (defeitos/cm²)

    Fração de defeitos críticos (0–1)

Da concentração à deposição

O cálculo usa Cn = 10^N × (0.1/D)^2.08 partículas/m³. N é a classe ISO. D é o limiar de tamanho de partícula em µm: Cn representa partículas com diâmetro de pelo menos D. É usado um único limiar cumulativo, portanto populações de limiares que se sobrepõem não são somadas.

Partículas depositadas/cm² = Cn × (fluxo descendente + velocidade de sedimentação) × exposição × fração de deposição ÷ 10000. As duas velocidades estão em m/s e a exposição está em segundos. O divisor converte metros quadrados em centímetros quadrados.

D0 ambiental = partículas depositadas/cm² × fração de defeitos críticos. O modelo soma essa contribuição a D0 do usuário (defeitos/cm²) · Hipótese para obter D0 total (defeitos/cm²).

Ler os dados de entrada e as estimativas

Os controles vinculados permitem classes ISO inteiras 1–9 e fluxo descendente de 0–1 m/s. Os dados de entrada independentes de classe ISO podem incluir valores fracionários dentro de 1–9. Limiar D (µm) aceita 0.1–5 µm. A velocidade de sedimentação e a exposição são não negativas; as frações de deposição e de defeitos críticos variam de 0 a 1.

As probabilidades de Poisson, Murphy e binomial negativa usam a área ativa do chip em cm² e o D0 total em defeitos/cm². Os chips bons esperados equivalem a wafers concluídos × chips por wafer × cada probabilidade de rendimento.

Interpretar mudanças no ambiente

Alterar um controle deslizante vinculado recalcula essas estimativas sobre os mesmos lotes simulados. Os tempos de ciclo e conclusão permanecem iguais.

A fábrica de referência e seus valores ambientais são hipóteses ilustrativas. A classe ISO fornece uma aproximação de concentração, não uma distribuição de partículas medida ou uma certificação. O mapeamento do ambiente para D0 não é calibrado; as probabilidades de rendimento e os chips bons esperados são estimativas, não resultados de produção medidos.