Parameter cuplikan EUV
Lihat nilai default perencanaan cuplikan dan nilai permintaan optik untuk pencitraan EUV lokal.
Referensi ini berlaku untuk vFactory di Cloud 2.1.2.10 dan Windows 2.1.2.3.
Cuplikan EUV menyiapkan pencitraan lokal geometri GDS yang diimpor. Geometri dan potongan menggunakan nm masker. Berikan optik eksplisit untuk pencitraan lokal.
Perencanaan cuplikan
Perencana membulatkan halo ke atas hingga kelipatan bulat interval raster. Satu proses menerima hingga 64 ubin.
Kolom | Nilai awal setelah impor |
|---|---|
Lapisan dan tipe data | Lapisan poligon pertama yang diimpor. |
X wilayah (nm masker), Y wilayah (nm masker) | X dan Y minimum poligon pertama yang diimpor. |
Lebar wilayah (nm masker), Tinggi wilayah (nm masker) | Rentang poligon pertama, dibatasi menjadi 4–512 nm pada setiap sumbu. |
Resolusi raster (nm masker) | 4 |
Halo (nm masker) | 32 |
Ukuran ubin (nm masker) | 512 |
Permintaan optik
Rentang di bawah adalah nilai yang ditampilkan oleh input numerik. Nilai defokus berupa bilangan hingga yang berbeda, dipisahkan dengan koma.
Kolom | Nilai awal; nilai input |
|---|---|
Panjang gelombang (nm) | 13,5; mulai 0,001 |
Bukaan numerik | 0,33; 0,001–0,55 |
Penghalangan | 0; 0–0,999 |
Sumber pencahayaan | Konvensional; Konvensional, Berbentuk cincin, Dipol, Kuadrupol, Sumber piksel |
Daftar defokus (nm) | 0; 1–32 nilai |
Ambang (Iref = 1) | 0,5; mulai 0,001 |
Lebar kisi keluaran, Tinggi kisi keluaran | Masing-masing 64; bilangan bulat dari 2 hingga 512 |
Pengaturan optik lanjutan
Data optik eksplisit (JSON) berisi stack, absorber, chiefRayDeg, polarization, transport, dan reflectionPlaneNm. Indeks medium sekitar adalah {re: 1, im: 0}; polarisasi adalah x atau y; transport adalah ideal-vector-v1 atau euvlitho-vector-v1.
Polinomial Zernike (JSON) menerima hingga 37 suku dengan indeks Noll berbeda dari 1 hingga 37 dan coefficientWaves dalam satuan gelombang. Titik sumber piksel (JSON) menerima 1–256 titik di dalam pupil satuan, dengan bobot nonnegatif dan jumlah positif.
Numerik (JSON; null memakai bawaan mesin) menerima null, atau refinements sebesar 2 atau 3 dengan method opsional berupa abbe, hopkins, atau socs. Sampling masker (JSON; null memakai bawaan mesin) menerima null, pengambilan sampel kontinu, atau pengambilan sampel piksel dengan lebar dan tinggi bilangan bulat dari 1 hingga 8192.
Panduan terkait
Menggunakan vFactory: jelajahi fab dan ikuti desain hingga wafer
Tata letak fab referensi, data proses, dan hasil menggunakan asumsi contoh.