Vincular hipóteses de sala limpa à fábrica de referência

Use os controles deslizantes do ambiente de referência para recalcular as estimativas de densidade de defeitos, rendimento e chips bons esperados.

No Cloud e no aplicativo do Windows, vincule as hipóteses de classe ISO e fluxo descendente da seção “Do projeto ao wafer” ao ambiente da fábrica de referência. Comece com uma fonte de projeto válida carregada; o guia “Usar vFactory: explorar uma fábrica e acompanhar um projeto até o wafer” explica a transferência do projeto.

Definir o ambiente de referência

  1. Selecione Fábrica de referência e depois abra Configurações da fábrica → Ambiente. Use a fábrica de referência de exemplo para essa conexão; as prévias de leiautes importados mantêm seu ambiente separado.

  2. Ajuste Limpeza de partículas no ar (poeira) e Velocidade do ar descendente. Os intervalos são classes ISO 1–9 e 0–1 m/s.

  3. Selecione Do projeto ao wafer. Em Ambiente de sala limpa · Hipóteses, selecione Use os controles deslizantes do ambiente da fábrica para a classe ISO e o fluxo descendente. Os dois controles deslizantes substituem os campos independentes de classe ISO e fluxo descendente.

Ambiente de sala limpa · Hipóteses em Do projeto ao wafer com a caixa Use os controles deslizantes do ambiente da fábrica para a classe ISO e o fluxo descendente marcada: o controle Limpeza de partículas no ar (poeira) na classe 5 da ISO 14644-1 (permitido 1–9), o controle Velocidade do ar descendente em 0.40 m/s (permitido 0–1 m/s) e as entradas Limiar de partículas, velocidade de sedimentação, exposição, fração de deposição e fração de defeitos críticos.

Com a caixa de seleção marcada, os dois controles deslizantes vinculados substituem os campos separados de classe ISO e fluxo descendente.

Os dados de entrada importados, fornecidos pelo sistema hospedeiro e reabertos mantêm suas próprias hipóteses até que você marque essa caixa de seleção. A vinculação adota o ambiente de referência atual. O limiar de partículas, a velocidade de sedimentação, a exposição e as frações de deposição e de defeitos críticos mantêm os valores existentes.

Conferir o resultado recalculado

  1. Selecione Calcular prévia para ler Estimativa de geometria e rendimento, incluindo Aproximação de Cn (partículas/m³), D0 ambiental (defeitos/cm²) e as probabilidades de rendimento.

  2. Após uma execução concluída, mova qualquer um dos controles deslizantes vinculados. Recalculado para o ambiente atual confirma que os rendimentos e os chips bons esperados foram recalculados sobre os mesmos lotes simulados.

  3. Se aparecer “Salvar este resultado no projeto”, selecione essa opção para salvar o resultado revisado. O recálculo não é salvo automaticamente.

Usar valores independentes

Desmarque a caixa de seleção para manter os valores mais recentes como dados de entrada numéricos independentes. Os valores importados anteriores não são restaurados. Editar um dado de entrada numérico apaga o resultado atual; use Calcular prévia ou Executar do projeto ao wafer novamente.

Os valores da fábrica de referência e do ambiente são hipóteses ilustrativas. A aproximação de concentração ISO e o mapeamento de deposição são estimativas não calibradas, não medições de limpeza, rendimento ou certificações.