Criar uma receita de processo de wafer

Defina os materiais, as camadas iniciais e as etapas de processo usadas por um modelo de wafer.

Abrir a receita de wafer

No menu de produtos, selecione vFactory → Processo de wafer e fabricação e depois Modelos de processo. Em Modelo, escolha Processo do wafer. Estas etapas se aplicam ao Cloud e ao Windows 2.1.2.3. O exemplo inicial fornece materiais, camadas e uma sequência de processo para editar.

Para conhecer o menu de produtos e fazer a primeira execução, consulte o guia do primeiro processo no link abaixo.

Definir materiais e camadas iniciais

  1. Informe um Nome da receita. Em Coeficientes dos materiais, defina cada ID de material e seus valores de D₀ (nm²/s) e Eₐ (eV). Selecione Adicionar material para adicionar outro material.

  2. Em Camadas iniciais a partir da superfície, escolha o material de cada camada e informe sua espessura em nm, a quantidade de células e a concentração em cm⁻³. A primeira camada é a camada superficial.

  3. Selecione Adicionar camada inferior para acrescentar uma camada abaixo das existentes.

Modelos de processo com Modelo definido como Processo do wafer e a receita de exemplo Planar layer example. Em Coeficientes dos materiais, constam Material 1 substrate (D₀ 10 nm²/s, Eₐ 0 eV) e Material 2 film (D₀ 2 nm²/s, Eₐ 0 eV), cada um com uma observação de que camadas ou etapas de processo o utilizam, e um botão Adicionar material. Em Camadas iniciais a partir da superfície, há uma camada com o material substrate, espessura 100 nm, 80 células e concentração 1000000000000000 cm⁻³, e um botão Adicionar camada inferior.

O exemplo inicial tem dois materiais e uma camada superficial. Altere aqui os IDs e os coeficientes dos materiais e os valores da camada, ou use Adicionar material e Adicionar camada inferior.

Alterar um ID de material atualiza suas referências na receita. Um material usado por uma camada ou etapa de processo permanece disponível até que essas referências sejam alteradas.

Adicionar etapas de processo

  1. Em Sequência do processo, selecione Adicionar deposição, Adicionar gravação, Adicionar difusão ou Adicionar rampa térmica. As novas etapas aparecem no fim da sequência.

  2. Atribua a cada etapa Nome da etapa e Duração (s). Para deposição, escolha o material, a taxa de crescimento, as novas células e a concentração depositada. Para corrosão, defina uma taxa para cada material.

  3. Para difusão, defina a temperatura e o passo de tempo máximo. Para uma rampa térmica, defina as temperaturas inicial e final e o passo de tempo máximo.

  4. Para qualquer uma das duas etapas de difusão, escolha as condições de contorno superior e inferior. Escolha Sem fluxo ou Concentração fixa; a segunda opção também mostra um campo de concentração.

  5. Selecione Executar simulação para calcular a receita. Use Salvar entradas para guardar as entradas atuais como JSON.

Sequência do processo da receita de exemplo com três etapas. 1. deposição, Deposit doped film: Duração (s) 10, Material depositado film, taxa de crescimento 2 nm/s e 16 novas células. 2. difusão, Anneal layers: Duração (s) 30, 1000 K, passo de tempo máximo 0.1 s e Sem fluxo em Condição de contorno superior e em Condição de contorno inferior. 3. corrosão, Selective film etch: Duração (s) 8, taxa de corrosão de substrate 0.1 nm/s e taxa de corrosão de film 1 nm/s. Os botões Adicionar deposição, Adicionar gravação, Adicionar difusão, Adicionar rampa térmica, Adicionar implantação iônica e Adicionar CMP também são exibidos.

Cada etapa tem seu próprio Nome da etapa, Duração (s) e entradas da etapa. A etapa de difusão também define Condição de contorno superior e Condição de contorno inferior.

Execute seu primeiro modelo de processo no vFactory

As entradas de exemplo são premissas sintéticas. Os resultados simulam o modelo fornecido, não dados de produção medidos.