将洁净室假设关联到参考晶圆厂

使用参考环境滑块，重新计算缺陷密度、良率和预期良品裸片数的估计值。

在 Cloud 和 Windows 应用中，将 从设计到晶圆 中的 ISO 等级和向下气流假设关联到参考晶圆厂环境。开始前请先加载有效的设计源；《使用 vFactory：探索晶圆厂，跟随设计到晶圆的流程》中说明了设计交接流程。

设置参考环境

  1. 选择 参考晶圆厂，然后打开 晶圆厂设置 → 环境。此关联使用参考晶圆厂示例；导入的布局预览会保持独立的环境。

  2. 调整 空气颗粒洁净度（灰尘） 和 向下气流速度。范围分别为 ISO 等级 1–9 和 0–1 m/s。

  3. 选择 从设计到晶圆。在 洁净室环境 · 假设 下选择 ISO 等级和向下气流请用晶圆厂环境滑块。这两个滑块会取代独立的 ISO 等级和向下气流字段。

从设计到晶圆中的洁净室环境 · 假设，已勾选 ISO 等级和向下气流请用晶圆厂环境滑块：空气颗粒洁净度（灰尘）滑块位于 ISO 14644-1 等级 5（允许 1–9），向下气流速度滑块位于 0.40 m/s（允许 0–1 m/s），以及粒径阈值、沉降速度、暴露时间、沉积比例和致命缺陷比例输入。

选中复选框后，两个关联的滑块会取代单独的 ISO 等级和向下气流字段。

导入、主机提供和重新打开的输入会保留自身假设，直到您选中此复选框。建立关联后会采用当前参考环境。粒径阈值、沉降速度、暴露时间、沉积比例和致命缺陷比例会保留现有值。

检查重新计算的结果

  1. 选择 计算预览 以查看 几何与良率估算，其中包括 Cn 近似值 (颗粒/m³)、环境 D0 (缺陷/cm²) 和良率概率。

  2. 运行完成后，移动任一已关联的滑块。已按当前环境重新计算 表示已针对相同的仿真批次重新计算良率和预期良品裸片数。

  3. 如果显示 将此结果保存到项目，请选择以保存修改后的结果。重新计算的结果不会自动保存。

使用独立数值

取消选中复选框，将最新数值保留为独立的数值输入。先前导入的数值不会恢复。编辑数值输入会清除当前结果；请再次使用 计算预览 或 运行从设计到晶圆仿真。

参考晶圆厂和环境数值是示意假设。ISO 浓度代理指标和沉积映射是未经校准的估计，并非实测洁净度、良率或认证。