Usa vFactory: explora una fábrica y sigue un diseño hasta la oblea

Abre vFactory

1. vFactory es el área de procesos de obleas y fábrica de semiconductores de Digital Design Studio, junto a DDS y ALcad.

2. En el menú de productos, elige vFactory → Wafer Process & Fab; la escena de la fábrica está activada de forma predeterminada.

3. La interfaz está disponible en Cloud y en las aplicaciones de Windows y Linux; las acciones sobre archivos del proyecto dependen del host seleccionado.

4. Empieza en Reference fab o elige Process models, Design to wafer, EUV calculation o EUV clip según la tarea.

5. El ejemplo de referencia original contiene 300 equipos en cuatro plantas, con una distribución ajustable de 200–400 equipos y supuestos explícitos para sus valores numéricos.

Abre vFactory desde el menú de productos.

Recorre la fábrica y elige una vista

1. Usa 2D map, 3D map, Top view, Walk o Dollhouse para inspeccionar la fábrica.

2. En Walk, enfoca la vista y usa W/S para avanzar o retroceder, A/D para desplazarte lateralmente y Shift para correr.

3. Arrastra en la vista 3D para mirar alrededor.

4. Acércate a una puerta y pulsa E; las puertas cerradas, paredes y equipos bloquean el recorrido.

5. En Stairs / elevator, elige Destination level y Connection, usa Walk to connection y después Change level al llegar.

6. Camina hasta el área EUV y acércate a un escáner hasta que aparezca Look inside · EUV scanner {number}.

Recorre la fábrica de referencia y acércate al laboratorio EUV.

Ejecuta una simulación y reproduce los lotes

1. En Process models, elige Seeded fab simulation (v2), revisa los datos de entrada del modelo y usa Run simulation cuando esté disponible.

2. El mismo modelo y la misma semilla reproducen la misma ejecución; los tiempos, fallos, mantenimiento y agrupación por lotes proceden del modelo suministrado.

3. Para una ejecución terminada con eventos registrados, usa Play simulation, Pause simulation, Restart playback y Playback speed, de 1× a 100,000×.

4. Selecciona un lote o busca su ID exacto para inspeccionar su estado registrado en el instante de simulación seleccionado; selecciona un equipo por separado para inspeccionar su estado.

5. La ruta de simulación predeterminada publicada reproduce los lotes y los estados de equipos registrados; no genera eventos de vehículos AMHS ni reproduce vehículos OHT. Una distribución de raíles por sí sola no crea una simulación de vehículos.

Inspecciona un lote seleccionado durante la reproducción de la fábrica registrada.

Inspecciona el escáner EUV y el cálculo

1. Elige Look inside · EUV scanner {number} en Walk para abrir el laboratorio de estructura y usa Close inside view o Escape para volver.

2. Ten presente Reconstruction · assumptions: la estructura usa información pública y dimensiones supuestas, en lugar de CAD de fabricación.

3. En EUV calculation, revisa un preajuste editable y elige Calculate EUV para inspeccionar el balance de potencia y fotones desde la fuente hasta la oblea.

4. Interpreta la velocidad de barrido, las obleas por hora y los resultados ópticos como cálculos sin calibrar con supuestos indicados, en lugar de como capacidad medida del equipo.

5. El barrido de 12.5–14.5 nm mantiene fijos los índices ópticos de 13.5 nm; no es un espectro medido ni un modelo de dispersión.

Inspecciona el escáner EUV reconstruido con su etiqueta de supuestos.

Lee un balance de luz EUV basado en supuestos.

Envía un diseño y examina la oblea virtual

1. En el visor GDS de DDS de un proyecto Cloud compatible, elige "Enviar a vFactory" para la estructura proyectada para abrir "Del diseño a la oblea" con ese diseño; no se ejecuta nada hasta que elijas "Ejecutar del diseño a la oblea".

2. La transferencia comienza con un lote de 25 obleas; elige "Ruta de la fábrica de referencia", revisa el número de lotes, el número de obleas y el intervalo de lanzamiento como supuestos editables y usa "Calcular vista previa" para comprobar el mapa de oblea y las estimaciones de rendimiento antes de ejecutar.

3. El mapa de oblea de 300 mm usa los límites GDS para el tamaño del dado e incluye el espaciado de corte y la exclusión de bordes.

4. Compara las estimaciones de rendimiento de Poisson, Murphy y binomial negativa usando el supuesto de densidad de defectos mostrado; son estimaciones, no recuentos medidos de dados válidos.

5. Lee Lot completion and delivery como segundos desde el inicio de la simulación; los lotes sin terminar no tienen una estimación de finalización ni entrega, y la entrega global requiere que terminen todos los lotes solicitados.

Hasta que llegue un diseño, Del diseño a la oblea muestra que no hay ninguna fuente de diseño, junto con sus supuestos editables. Calcular vista previa y Ejecutar del diseño a la oblea permanecen no disponibles.

Lee el mapa de oblea, los supuestos de rendimiento y la entrega simulada del lote.

6. Usa Follow lot in 3D para un lote recién simulado; la finalización o la selección de otro lote detienen el seguimiento, y los archivos de resumen reabiertos no contienen eventos de reproducción.

7. Una nueva transferencia de DDS vincula la clase ISO y el flujo descendente a los controles deslizantes del entorno de la fábrica; las entradas importadas o reabiertas mantienen sus propios supuestos hasta que se vinculen explícitamente.

Comprueba las entradas de Design to wafer y mantén la clase ISO y el flujo descendente vinculados a los controles deslizantes del entorno de la fábrica.

8. Cambiar esos controles vinculados recalcula la concentración, el D0 ambiental, el rendimiento y los dados válidos esperados sin volver a ejecutar la fábrica; guarda explícitamente el resultado revisado cuando se admita guardar el proyecto.

9. La clase ISO es un indicador indirecto de concentración de partículas, no una distribución medida ni una certificación; el flujo descendente forma parte de un supuesto de deposición sin calibrar.

10. La temperatura, la humedad, la presión y la vibración no tienen efectos modelados sobre partículas, defectos, rendimiento ni temperatura.

Importa tus propios archivos

1. Para una vista previa de la distribución, usa Fab setup → Import fab layout con un archivo JSON fab-model/v1 o fab-model/v2 completo.

2. Para convertir datos de origen, elige Import fab data en el modelo v2 basado en semilla y revisa Import diagnostics antes de ejecutarlo; primero deben resolverse las semánticas de origen incompletas o no compatibles.

3. El importador de archivos de origen acepta archivos compatibles .asd, .xlsx, .cf, .os, .pr, .rw, .ts, .vr, .rte, .txt y .csv, además de options.def, con un máximo de 64 archivos, 32 MiB por archivo y 64 MiB en total.

4. Design to wafer acepta por separado un paquete JSON de origen DDS/tapeout y entradas opcionales de duración de montaje y prueba; sus importaciones JSON están limitadas a 1 MiB.

5. Obtén por tu cuenta los conjuntos de datos externos destinados solo a importación; el producto no incluye esos conjuntos y el ejemplo de fábrica suministrado es sintético.

6. Los recorridos, grabaciones y páginas de proveedores externos son solo referencias visuales; sus capturas de pantalla, vídeos, CAD y logotipos no se incluyen como recursos de fábrica.

Límites que debes tener presentes

1. En el escritorio Linux, la alternativa WebGL2 usa el nivel Low; cuando no puede usarse ni WebGPU ni WebGL2, la fábrica muestra el plano 2D a escala real.

2. EUV clip calcula localmente una imagen aérea de máscara delgada; la generación de imágenes en Cloud no está disponible en la versión publicada, por lo que debes usar el procesamiento local por mosaicos dentro de los límites del dispositivo.

3. El visor de estructura EUV explica la estructura óptica reconstruida, y sus rayos ilustrativos no son una simulación electromagnética, de formación de imágenes, térmica ni de vibración.

4. Los tiempos de ciclo y entrega de la fábrica, las estimaciones de rendimiento y el balance EUV son resultados de modelos con supuestos, no una aprobación de fabricación ni promesas reales de entrega.

5. Las notas de la versión registran un aumento de memoria GPU compartida en Intel Iris Xe al abrir repetidamente la vista interior EUV o cambiar la calidad Medium/Low.