Usare vFactory: esplorare una fabbrica e seguire un progetto fino al wafer

Apri vFactory

1. vFactory è l'area dedicata ai processi wafer e alla fabbrica all'interno di Digital Design Studio, accanto a DDS e ALcad.

2. Nel menu del prodotto, scegli vFactory → Wafer Process & Fab; la scena della fabbrica è abilitata per impostazione predefinita.

3. L'interfaccia è disponibile in Cloud e nelle app Windows e Linux; le azioni sui file del progetto dipendono dall'host selezionato.

4. Inizia da Reference fab oppure scegli Process models, Design to wafer, EUV calculation o EUV clip in base all'attività.

5. L'esempio di riferimento originale contiene 300 apparecchiature su quattro livelli, con un layout regolabile da 200–400 apparecchiature e ipotesi esplicite per i valori numerici.

Apri vFactory dal menu del prodotto.

Cammina e scegli una vista

1. Usa 2D map, 3D map, Top view, Walk o Dollhouse per esaminare la fabbrica.

2. In Walk, porta il focus sulla vista e usa W/S per muoverti avanti/indietro, A/D per spostarti lateralmente e Shift per correre.

3. Trascina nella vista 3D per guardarti intorno.

4. Avvicinati a una porta e premi E; porte chiuse, pareti e apparecchiature bloccano il percorso.

5. In Stairs / elevator, scegli Destination level e Connection, usa Walk to connection e poi Change level all'arrivo.

6. Cammina fino all'area EUV e avvicinati a uno scanner finché compare Look inside · EUV scanner {number}.

Visita a piedi la fabbrica di riferimento e avvicinati al laboratorio EUV.

Esegui una simulazione e riproduci i lotti

1. In Process models, scegli Seeded fab simulation (v2), esamina gli input del modello e usa Run simulation quando è disponibile.

2. Lo stesso modello e lo stesso seed riproducono la stessa esecuzione; tempi, guasti, manutenzione e raggruppamento in batch derivano dal modello fornito.

3. Per un'esecuzione completata con eventi registrati, usa Play simulation, Pause simulation, Restart playback e Playback speed, da 1× a 100,000×.

4. Seleziona un lotto o cerca il suo ID esatto per esaminarne lo stato registrato all'istante di simulazione selezionato; seleziona separatamente un'apparecchiatura per esaminarne lo stato.

5. Il percorso di simulazione predefinito rilasciato riproduce i lotti e gli stati delle apparecchiature registrati; non genera eventi dei veicoli AMHS né riproduce veicoli OHT. Il solo layout delle rotaie non crea una simulazione dei veicoli.

Esamina un lotto selezionato durante la riproduzione registrata della fabbrica.

Esamina lo scanner EUV e il calcolo

1. Scegli Look inside · EUV scanner {number} in Walk per aprire il laboratorio della struttura e usa Close inside view o Escape per tornare indietro.

2. Tieni presente Reconstruction · assumptions: la struttura usa informazioni pubbliche e dimensioni ipotizzate, anziché CAD per la produzione.

3. In EUV calculation, esamina un preset modificabile e scegli Calculate EUV per analizzare il bilancio di potenza e fotoni dalla sorgente al wafer.

4. Considera velocità di scansione, wafer all'ora e risultati ottici come calcoli non calibrati con ipotesi dichiarate, anziché produttività misurata delle apparecchiature.

5. La scansione nell'intervallo 12.5–14.5 nm mantiene fissi gli indici ottici a 13.5 nm; non è uno spettro misurato né un modello di dispersione.

Esamina lo scanner EUV ricostruito con l'etichetta delle ipotesi.

Leggi un bilancio della luce EUV basato su ipotesi.

Invia un progetto e leggi il wafer virtuale

1. Nel visualizzatore DDS GDS di un progetto Cloud che supporta la funzione, scegli "Invia a vFactory" per la struttura proiettata per aprire "Dal progetto al wafer" con quella struttura; non viene eseguito nulla finché non scegli "Esegui dal progetto al wafer".

2. Il passaggio inizia con un lotto di 25 wafer; scegli "Percorso della fabbrica di riferimento", esamina numero di lotti, numero di wafer e intervallo di rilascio come ipotesi modificabili e usa "Calcola anteprima" per controllare la mappa del wafer e le stime di resa prima di eseguire.

3. La mappa del wafer da 300 mm usa i limiti GDS per le dimensioni del die e include la spaziatura di taglio e l'esclusione del bordo.

4. Confronta le stime di resa Poisson, Murphy e binomiale negativa usando l'ipotesi di densità dei difetti mostrata; sono stime, non conteggi misurati di die buoni.

5. Leggi Lot completion and delivery come secondi dall'inizio della simulazione; i lotti incompleti non hanno stime di completamento o consegna e la consegna complessiva richiede che tutti i lotti richiesti siano terminati.

Finché non arriva un progetto, Dal progetto al wafer mostra che non c'è alcuna sorgente di progetto, insieme alle sue ipotesi modificabili. Calcola anteprima ed Esegui dal progetto al wafer restano non disponibili.

Leggi la mappa del wafer, le ipotesi di resa e la consegna simulata dei lotti.

6. Usa Follow lot in 3D per un lotto appena simulato; il completamento o la selezione di un altro lotto interrompe il seguito e i file di riepilogo riaperti non contengono eventi di riproduzione.

7. Un nuovo passaggio da DDS collega la classe ISO e il flusso discendente ai cursori dell'ambiente della fabbrica; gli input importati o riaperti mantengono le proprie ipotesi finché non vengono collegati esplicitamente.

Controlla gli input di Design to wafer e mantieni la classe ISO e il flusso discendente collegati ai cursori dell'ambiente della fabbrica.

8. Modificare i cursori collegati ricalcola concentrazione, D0 ambientale, resa e die buoni attesi senza rieseguire la fabbrica; salva esplicitamente il risultato aggiornato dove è supportato il salvataggio del progetto.

9. La classe ISO è un indicatore indiretto della concentrazione di particelle, non una distribuzione misurata né una certificazione; il flusso discendente fa parte di un'ipotesi di deposizione non calibrata.

10. Temperatura, umidità, pressione e vibrazioni non hanno effetti modellati su particelle, difetti, resa o comportamento termico.

Importa i tuoi file

1. Per un'anteprima del layout, usa Fab setup → Import fab layout con un file JSON fab-model/v1 o fab-model/v2 completo.

2. Per convertire dati sorgente, scegli Import fab data nel modello v2 basato su seed ed esamina Import diagnostics prima dell'esecuzione; la semantica incompleta o non supportata dei dati sorgente va risolta prima.

3. L'importatore di file sorgente accetta i file supportati .asd, .xlsx, .cf, .os, .pr, .rw, .ts, .vr, .rte, .txt e .csv, più options.def, fino a 64 file, 32 MiB per file e 64 MiB totali.

4. Design to wafer accetta separatamente un pacchetto JSON sorgente DDS/tapeout e input facoltativi per la durata di assemblaggio/test; le importazioni JSON sono limitate a 1 MiB.

5. Procurati autonomamente i dataset esterni utilizzabili solo tramite importazione; il prodotto non include tali dataset e l'esempio di fabbrica fornito è sintetico.

6. Tour esterni, registrazioni e pagine dei fornitori sono solo riferimenti da consultare; screenshot, video, CAD e loghi relativi non sono inclusi come risorse della fabbrica.

Limiti da tenere presenti

1. Su Linux desktop, il percorso alternativo WebGL2 usa il livello Low; se né WebGPU né WebGL2 sono utilizzabili, la fabbrica mostra la pianta 2D in scala reale.

2. EUV clip calcola localmente un'immagine aerea con maschera sottile; l'imaging Cloud non è disponibile nella release pubblicata, quindi usa la suddivisione locale in riquadri entro i limiti del dispositivo.

3. Il visualizzatore della struttura EUV spiega la struttura ottica ricostruita e i suoi raggi illustrativi non sono una simulazione elettromagnetica, di imaging, termica o delle vibrazioni.

4. Tempi di ciclo e consegna della fabbrica, stime di resa e bilancio EUV sono risultati di modelli con ipotesi, non approvazioni per la produzione né promesse di consegna reale.

5. Le note di rilascio documentano un aumento della memoria GPU condivisa su Intel Iris Xe dopo ripetute aperture della vista interna EUV o cambi di qualità Medium/Low.