vFactory उपयोग करें: फ़ैब देखें और डिज़ाइन से वेफ़र तक जाएँ

Digital Design Studio में vFactory खोलें, संदर्भ फ़ैब में चलें, सिमुलेशन फिर से देखें, EUV मॉडल जाँचें और Cloud GDS लेआउट से आभासी वेफ़र तक जाएँ।

vFactory खोलें

  1. vFactory, Digital Design Studio में DDS और ALcad के साथ उपलब्ध वेफ़र प्रक्रिया और फ़ैब कार्यक्षेत्र है।

  2. उत्पाद मेनू में vFactory → Wafer Process & Fab चुनें; फ़ैब दृश्य डिफ़ॉल्ट रूप से सक्षम है।

  3. इंटरफ़ेस Cloud और Windows तथा Linux ऐप में उपलब्ध है; प्रोजेक्ट फ़ाइल कार्रवाइयाँ चुने गए होस्ट पर निर्भर हैं।

  4. Reference fab से शुरू करें, या कार्य के लिए Process models, Design to wafer, EUV calculation या EUV clip चुनें।

  5. मूल संदर्भ उदाहरण में चार स्तरों पर 300 उपकरण हैं। लेआउट को 200–400 उपकरणों के बीच समायोजित किया जा सकता है और संख्यात्मक मानों की धारणाएँ स्पष्ट रूप से दी गई हैं।

उत्पाद मेनू से vFactory खोलें।

उत्पाद मेनू से vFactory खोलें।

चलें और दृश्य चुनें

  1. फ़ैब देखने के लिए 2D map, 3D map, Top view, Walk या Dollhouse उपयोग करें।

  2. Walk में व्यूपोर्ट पर फ़ोकस करें और आगे/पीछे जाने के लिए W/S, बगल में चलने के लिए A/D तथा दौड़ने के लिए Shift उपयोग करें।

  3. चारों ओर देखने के लिए 3D दृश्य में ड्रैग करें।

  4. दरवाज़े के पास जाकर E दबाएँ; बंद दरवाज़े, दीवारें और उपकरण चलने का रास्ता रोकते हैं।

  5. Stairs / elevator में Destination level और Connection चुनें, Walk to connection उपयोग करें और पहुँचने पर Change level चुनें।

  6. EUV क्षेत्र तक चलें और स्कैनर के पास जाएँ, जब तक Look inside · EUV scanner {number} न दिखे।

संदर्भ फ़ैब में चलें और EUV प्रयोगशाला के पास जाएँ।

संदर्भ फ़ैब में चलें और EUV प्रयोगशाला के पास जाएँ।

सिमुलेशन चलाएँ और लॉट फिर से चलाकर देखें

  1. Process models में Seeded fab simulation (v2) चुनें, मॉडल इनपुट की समीक्षा करें और उपलब्ध होने पर Run simulation उपयोग करें।

  2. एक ही मॉडल और सीड से वही रन दोबारा बनता है; समय, विफलताएँ, रखरखाव और बैचिंग दिए गए मॉडल से आते हैं।

  3. रिकॉर्ड किए गए इवेंट वाले पूरे हुए रन के लिए Play simulation, Pause simulation, Restart playback और 1× से 100,000× तक Playback speed उपयोग करें।

  4. चुने गए सिमुलेशन समय पर लॉट की रिकॉर्ड की गई स्थिति देखने के लिए लॉट चुनें या उसका सटीक ID खोजें; उपकरण की स्थिति देखने के लिए उसे अलग से चुनें।

  5. जारी किया गया डिफ़ॉल्ट सिमुलेशन मार्ग रिकॉर्ड किए गए लॉट और उपकरण स्थितियाँ फिर से दिखाता है; यह AMHS वाहन इवेंट नहीं बनाता और OHT वाहनों का प्लेबैक नहीं करता। केवल रेल लेआउट से वाहन सिमुलेशन नहीं बनता।

रिकॉर्ड किए गए फ़ैब प्लेबैक के दौरान चुने गए लॉट की जाँच करें।

रिकॉर्ड किए गए फ़ैब प्लेबैक के दौरान चुने गए लॉट की जाँच करें।

EUV स्कैनर और गणना की जाँच करें

  1. संरचना प्रयोगशाला खोलने के लिए Walk में Look inside · EUV scanner {number} चुनें और लौटने के लिए Close inside view या Escape उपयोग करें।

  2. Reconstruction · assumptions ध्यान में रखें: यह संरचना निर्माण CAD के बजाय सार्वजनिक जानकारी और अनुमानित आयामों का उपयोग करती है।

  3. EUV calculation में संपादन योग्य प्रीसेट की समीक्षा करें और प्रकाश स्रोत से वेफ़र तक शक्ति और फ़ोटॉन बजट देखने के लिए Calculate EUV चुनें।

  4. स्कैन गति, प्रति घंटे वेफ़र और ऑप्टिकल परिणामों को स्पष्ट धारणाओं वाली अकैलिब्रेटेड गणनाएँ मानें, उपकरण की मापी हुई प्रसंस्करण दर नहीं।

  5. 12.5–14.5 nm स्वीप में 13.5 nm के ऑप्टिकल सूचकांक स्थिर रहते हैं; यह मापा हुआ स्पेक्ट्रम या डिस्पर्शन मॉडल नहीं है।

धारणा के लेबल सहित पुनर्निर्मित EUV स्कैनर की जाँच करें।

धारणा के लेबल सहित पुनर्निर्मित EUV स्कैनर की जाँच करें।

धारणाओं पर आधारित EUV प्रकाश बजट पढ़ें।

धारणाओं पर आधारित EUV प्रकाश बजट पढ़ें।

डिज़ाइन भेजें और आभासी वेफ़र देखें

  1. समर्थित Cloud प्रोजेक्ट के DDS GDS व्यूअर में प्रक्षेपित संरचना के लिए "vFactory को भेजें" चुनें। इससे उस डिज़ाइन के साथ "डिज़ाइन से वेफ़र तक" खुलता है; "डिज़ाइन से वेफ़र तक चलाएँ" चुनने तक कुछ भी नहीं चलता।

  2. हस्तांतरण एक 25-वेफ़र लॉट से शुरू होता है; "संदर्भ फ़ैब मार्ग" चुनें, लॉट संख्या, वेफ़र संख्या और रिलीज़ अंतराल की संपादन योग्य धारणाओं के रूप में समीक्षा करें, और चलाने से पहले "पूर्वावलोकन की गणना करें" से वेफ़र मैप और यील्ड अनुमान जाँचें।

  3. 300 mm वेफ़र मैप डाई के आकार के लिए GDS सीमाओं का उपयोग करता है और स्क्राइब अंतराल तथा किनारे का अपवर्जन शामिल करता है।

  4. दिखाई गई दोष घनत्व की धारणा के साथ Poisson, Murphy और ऋणात्मक द्विपद यील्ड अनुमानों की तुलना करें; ये अनुमान हैं, अच्छी डाई की मापी हुई संख्या नहीं।

  5. Lot completion and delivery को सिमुलेशन शुरू होने से बीते सेकंड के रूप में पढ़ें; अधूरे लॉट के लिए पूर्णता या डिलीवरी अनुमान नहीं होता और कुल डिलीवरी के लिए सभी अनुरोधित लॉट पूरे होने चाहिए।

बिना डिज़ाइन स्रोत वाला "डिज़ाइन से वेफ़र तक" टैब। संदेश बताता है कि कोई डिज़ाइन स्रोत नहीं है और मौजूदा DDS डिज़ाइन भेजने या tapeout स्रोत पैकेज आयात करने को कहता है। इसके अलावा स्क्रीन पर "DDS / tapeout स्रोत आयात करें" बटन, ज्यामिति, यील्ड और लॉट रिलीज़ के इनपुट, ISO वर्ग और नीचे बहती हवा के लिए "क्लीनरूम वातावरण · धारणाएँ" स्लाइडर, तथा अनुपलब्ध "पूर्वावलोकन की गणना करें" और "डिज़ाइन से वेफ़र तक चलाएँ" बटन हैं।

डिज़ाइन आने तक "डिज़ाइन से वेफ़र तक" दिखाता है कि कोई डिज़ाइन स्रोत नहीं है, साथ ही संपादन योग्य धारणाएँ भी। "पूर्वावलोकन की गणना करें" और "डिज़ाइन से वेफ़र तक चलाएँ" अनुपलब्ध रहते हैं।

वेफ़र मैप, यील्ड धारणाएँ और सिमुलेट की गई लॉट डिलीवरी पढ़ें।

वेफ़र मैप, यील्ड धारणाएँ और सिमुलेट की गई लॉट डिलीवरी पढ़ें।

  1. नए सिमुलेट किए गए लॉट के लिए Follow lot in 3D उपयोग करें; लॉट पूरा होने या दूसरा लॉट चुनने पर पीछा करना रुक जाता है, और फिर से खोली गई सारांश फ़ाइलों में प्लेबैक इवेंट नहीं होते।

  2. नया DDS हस्तांतरण ISO वर्ग और नीचे बहती हवा को फ़ैब पर्यावरण स्लाइडर से जोड़ता है; आयातित या फिर से खोले गए इनपुट स्पष्ट रूप से जोड़े जाने तक अपनी धारणाएँ रखते हैं।

Design to wafer के इनपुट जाँचें और ISO वर्ग तथा नीचे बहती हवा को फ़ैब पर्यावरण स्लाइडर से जोड़े रखें।

Design to wafer के इनपुट जाँचें और ISO वर्ग तथा नीचे बहती हवा को फ़ैब पर्यावरण स्लाइडर से जोड़े रखें।

  1. इन जुड़े स्लाइडर को बदलने से फ़ैब दोबारा चलाए बिना सांद्रता, पर्यावरण D0, यील्ड और अपेक्षित अच्छी डाई की फिर से गणना होती है; प्रोजेक्ट सहेजना समर्थित हो तो संशोधित परिणाम स्पष्ट रूप से सहेजें।

  2. ISO वर्ग कण सांद्रता का प्रतिनिधि मान है, मापा हुआ वितरण या प्रमाणन नहीं; नीचे बहती हवा अकैलिब्रेटेड निक्षेपण धारणा का हिस्सा है।

  3. तापमान, आर्द्रता, दबाव और कंपन के लिए कण, दोष, यील्ड या ऊष्मीय प्रभाव मॉडल नहीं किए गए हैं।

अपनी फ़ाइलें आयात करें

  1. लेआउट पूर्वावलोकन के लिए पूरी fab-model/v1 या fab-model/v2 JSON फ़ाइल के साथ Fab setup → Import fab layout उपयोग करें।

  2. सोर्स डेटा रूपांतरण के लिए सीड वाले v2 मॉडल में Import fab data चुनें और चलाने से पहले Import diagnostics की समीक्षा करें; अधूरे या असमर्थित सोर्स अर्थ पहले हल करने होंगे।

  3. सोर्स फ़ाइल आयातक समर्थित .asd, .xlsx, .cf, .os, .pr, .rw, .ts, .vr, .rte, .txt और .csv फ़ाइलों के साथ options.def स्वीकार करता है; सीमा 64 फ़ाइलें, प्रति फ़ाइल 32 MiB और कुल 64 MiB है।

  4. Design to wafer अलग से DDS/टेपआउट सोर्स JSON पैकेज और वैकल्पिक असेंबली/टेस्ट अवधि इनपुट स्वीकार करता है; इसके JSON आयात की सीमा 1 MiB है।

  5. केवल आयात के लिए उपयोग होने वाले बाहरी डेटासेट स्वयं प्राप्त करें; उत्पाद में वे डेटासेट शामिल नहीं हैं और दिया गया फ़ैब उदाहरण कृत्रिम है।

  6. बाहरी टूर, रिकॉर्डिंग और विक्रेता पृष्ठ केवल देखने के संदर्भ हैं; उनके स्क्रीनशॉट, वीडियो, CAD और लोगो शामिल फ़ैब संसाधन नहीं हैं।

ध्यान में रखने वाली सीमाएँ

  1. Linux डेस्कटॉप पर WebGL2 फ़ॉलबैक Low स्तर उपयोग करता है; जहाँ WebGPU और WebGL2 दोनों अनुपयोगी हों, फ़ैब वास्तविक पैमाने की 2D योजना दिखाता है।

  2. EUV clip स्थानीय रूप से पतले मास्क की एरियल इमेज की गणना करता है; प्रकाशित रिलीज़ में Cloud इमेजिंग उपलब्ध नहीं है, इसलिए डिवाइस की सीमाओं के भीतर स्थानीय टाइलिंग उपयोग करें।

  3. EUV संरचना व्यूअर पुनर्निर्मित ऑप्टिकल संरचना समझाता है और उसकी उदाहरण किरणें विद्युतचुंबकीय, इमेजिंग, ऊष्मीय या कंपन सिमुलेशन नहीं हैं।

  4. फ़ैब चक्र और डिलीवरी समय, यील्ड अनुमान और EUV बजट धारणाओं वाले मॉडल परिणाम हैं, निर्माण की मंज़ूरी या वास्तविक डिलीवरी के वादे नहीं।

  5. रिलीज़ नोट्स में Intel Iris Xe पर EUV आंतरिक दृश्य बार-बार खोलने या Medium/Low गुणवत्ता बदलने के बाद साझा GPU मेमोरी बढ़ने का उल्लेख है।