Ein Waferprozess-Rezept erstellen

Legen Sie Materialien, Ausgangsschichten und Prozessschritte für ein Wafermodell fest.

Das Waferrezept öffnen

Wählen Sie im Produktmenü vFactory → Waferprozess und Fertigung und anschließend Prozessmodelle. Wählen Sie unter Modell die Option Waferprozess. Diese Schritte gelten für Cloud und Windows 2.1.2.3. Das Ausgangsbeispiel enthält Materialien, Schichten und eine Prozessfolge, die Sie bearbeiten können.

Hinweise zum Produktmenü und zum ersten Lauf finden Sie in der unten verlinkten Anleitung für den ersten Prozesslauf.

Materialien und Ausgangsschichten festlegen

  1. Geben Sie einen Namen unter Rezeptname ein. Legen Sie unter Materialkoeffizienten jede Material-ID und ihre Werte für D₀ (nm²/s) und Eₐ (eV) fest. Wählen Sie Material hinzufügen, um ein weiteres Material hinzuzufügen.

  2. Wählen Sie unter Anfangsschichten ab der Oberfläche das Material jeder Schicht und geben Sie Dicke in nm, Zellenanzahl und Konzentration in cm⁻³ an. Die erste Schicht ist die Oberflächenschicht.

  3. Wählen Sie Unterste Schicht hinzufügen, um unter den vorhandenen Schichten eine Schicht anzufügen.

Prozessmodelle mit auf Waferprozess gesetztem Modell und dem Beispielrezept Planar layer example. Materialkoeffizienten enthalten Material 1 substrate (D₀ 10 nm²/s, Eₐ 0 eV) und Material 2 film (D₀ 2 nm²/s, Eₐ 0 eV), jeweils mit einem Hinweis, dass Schichten oder Prozessschritte es verwenden, sowie eine Schaltfläche Material hinzufügen. Anfangsschichten ab der Oberfläche enthalten eine Schicht mit dem Material substrate, Dicke 100 nm, 80 Zellen und Konzentration 1000000000000000 cm⁻³ sowie eine Schaltfläche Unterste Schicht hinzufügen.

Das Ausgangsbeispiel enthält zwei Materialien und eine Oberflächenschicht. Ändern Sie hier die Material-IDs, die Koeffizienten und die Schichtwerte oder verwenden Sie Material hinzufügen und Unterste Schicht hinzufügen.

Wenn Sie eine Material-ID ändern, werden ihre Referenzen im Rezept aktualisiert. Ein von einer Schicht oder einem Prozessschritt verwendetes Material bleibt verfügbar, bis diese Referenzen geändert werden.

Prozessschritte hinzufügen

  1. Wählen Sie unter Prozessablauf die Option Abscheidung hinzufügen, Ätzen hinzufügen, Diffusion hinzufügen oder Temperaturrampe hinzufügen. Neue Schritte erscheinen am Ende der Folge.

  2. Geben Sie jedem Schritt Werte für Schrittname und Dauer (s). Wählen Sie für eine Abscheidung Material, Wachstumsrate, neue Zellen und abgeschiedene Konzentration. Legen Sie für das Ätzen eine Rate je Material fest.

  3. Legen Sie für die Diffusion Temperatur und maximalen Zeitschritt fest. Legen Sie für eine Temperaturrampe Anfangs- und Endtemperatur sowie den maximalen Zeitschritt fest.

  4. Wählen Sie für beide Diffusionsschritte die oberen und unteren Randbedingungen. Wählen Sie Kein Fluss oder Feste Konzentration; bei Letzterem wird auch ein Konzentrationsfeld angezeigt.

  5. Wählen Sie Simulation ausführen, um das Rezept zu berechnen. Verwenden Sie Eingaben speichern, um die aktuellen Eingaben als JSON zu speichern.

Prozessablauf des Beispielrezepts mit drei Schritten. 1. Abscheidung, Deposit doped film: Dauer (s) 10, Abscheidungsmaterial film, Wachstumsrate 2 nm/s und 16 neue Zellen. 2. Diffusion, Anneal layers: Dauer (s) 30, 1000 K, maximaler Zeitschritt 0.1 s sowie Kein Fluss als Obere Randbedingung und Untere Randbedingung. 3. Ätzen, Selective film etch: Dauer (s) 8, Ätzrate substrate 0.1 nm/s und Ätzrate film 1 nm/s. Außerdem werden die Schaltflächen Abscheidung hinzufügen, Ätzen hinzufügen, Diffusion hinzufügen, Temperaturrampe hinzufügen, Ionenimplantation hinzufügen und CMP hinzufügen angezeigt.

Jeder Schritt hat eigene Werte für Schrittname, Dauer (s) und Schritteingaben. Der Diffusionsschritt legt außerdem Obere Randbedingung und Untere Randbedingung fest.

Ihr erstes Prozessmodell in vFactory ausführen

Die Beispieleingaben sind synthetische Annahmen. Die Ergebnisse simulieren das angegebene Modell, keine gemessenen Produktionsdaten.