Создайте рецепт процесса обработки пластины

Задайте материалы, начальные слои и этапы процесса, используемые моделью пластины.

Откройте рецепт обработки пластины

В меню продуктов выберите vFactory → Процессы и фабрика, затем Модели процессов. В Модель выберите Процесс пластины. Эти действия применимы к Cloud и Windows 2.1.2.3. Начальный пример предоставляет материалы, слои и последовательность процесса для редактирования.

Сведения о меню продуктов и первом запуске см. в руководстве по первому запуску процесса по ссылке ниже.

Задайте материалы и начальные слои

  1. Введите Название рецепта. В разделе Коэффициенты материалов задайте ID каждого материала и его значения D₀ (nm²/s) и Eₐ (eV). Чтобы добавить ещё один материал, выберите Добавить материал.

  2. В разделе Начальные слои от поверхности выберите материал каждого слоя и введите его толщину в nm, число ячеек и концентрацию в cm⁻³. Первый слой является поверхностным.

  3. Выберите Добавить нижний слой, чтобы добавить слой под существующими слоями.

Модели процессов: в поле Модель выбран Процесс пластины, пример рецепта Planar layer example. Коэффициенты материалов содержат Материал 1 substrate (D₀ 10 nm²/s, Eₐ 0 eV) и Материал 2 film (D₀ 2 nm²/s, Eₐ 0 eV), каждый с примечанием о том, что его используют слои или этапы процесса, а также кнопку Добавить материал. Начальные слои от поверхности содержат один слой с материалом substrate, толщиной 100 nm, 80 ячейками и концентрацией 1000000000000000 cm⁻³, а также кнопку Добавить нижний слой.

В начальном примере два материала и один поверхностный слой. Измените здесь ID материалов, коэффициенты и значения слоя либо используйте Добавить материал и Добавить нижний слой.

При изменении ID материала ссылки на него в рецепте обновляются. Материал, используемый слоем или этапом процесса, остаётся доступным, пока эти ссылки не будут изменены.

Добавьте этапы процесса

  1. В разделе Последовательность процесса выберите Добавить осаждение, Добавить травление, Добавить диффузию или Добавить изменение температуры. Новые этапы появляются в конце последовательности.

  2. Для каждого этапа задайте Название шага и Длительность (s). Для осаждения выберите материал, скорость роста, новые ячейки и концентрацию осаждаемого материала. Для травления задайте скорость для каждого материала.

  3. Для диффузии задайте температуру и максимальный шаг по времени. Для температурного перехода задайте начальную и конечную температуры и максимальный шаг по времени.

  4. Для обоих видов диффузионных этапов выберите верхнее и нижнее граничные условия. Выберите Без потока или Фиксированная концентрация; во втором случае также отображается поле концентрации.

  5. Выберите Запустить моделирование, чтобы рассчитать рецепт. Используйте Сохранить входные данные, чтобы сохранить текущие входные данные в формате JSON.

Последовательность процесса примера рецепта из трёх этапов. 1. осаждение, Deposit doped film: Длительность (s) 10, Материал осаждения film, скорость роста 2 nm/s и 16 новых ячеек. 2. диффузия, Anneal layers: Длительность (s) 30, 1000 K, максимальный шаг по времени 0.1 s, а Верхнее граничное условие и Нижнее граничное условие заданы как Без потока. 3. травление, Selective film etch: Длительность (s) 8, скорость травления substrate 0.1 nm/s и скорость травления film 1 nm/s. Также показаны кнопки Добавить осаждение, Добавить травление, Добавить диффузию, Добавить изменение температуры, Добавить ионную имплантацию и Добавить CMP.

У каждого этапа есть своё Название шага, своя Длительность (s) и свои входные данные. Этап диффузии также задаёт Верхнее граничное условие и Нижнее граничное условие.

Запустите первую модель процесса в vFactory

Входные данные примера являются синтетическими допущениями. Результаты моделируют заданную модель и не являются измеренными производственными данными.