EUV 클립 매개변수

EUV 클립 매개변수

로컬 EUV 이미징의 클립 계획 기본값과 광학 요청 값을 확인하세요.

이 참조 문서는 Cloud 2.1.2.10 및 Windows 2.1.2.3의 vFactory에 적용됩니다.

EUV 클립은 가져온 GDS 형상의 로컬 이미징을 설정합니다. 형상과 단면은 마스크 nm를 사용합니다. 로컬 이미징에는 명시적 광학 설정을 제공하세요.

클립 계획

계획기는 헤일로를 래스터 간격의 정수배로 올림합니다. 한 번의 실행에 최대 64개 타일을 사용할 수 있습니다.

필드	가져온 후 초기값
레이어 및 데이터 유형	가져온 첫 번째 다각형의 레이어입니다.
영역 X (마스크 nm), 영역 Y (마스크 nm)	가져온 첫 번째 다각형의 최소 X 및 Y입니다.
영역 너비 (마스크 nm), 영역 높이 (마스크 nm)	첫 번째 다각형의 크기로, 각 축에서 4–512 nm 범위로 조정됩니다.
래스터 해상도 (마스크 nm)	4
헤일로 (마스크 nm)	32
타일 크기 (마스크 nm)	512

광학 요청

아래 범위는 숫자 입력란에 표시되는 값입니다. 디포커스 값은 쉼표로 구분된 서로 다른 유한수입니다.

필드	초기값; 입력 값
파장 (nm)	13.5; 0.001 이상
개구수	0.33; 0.001–0.55
차폐율	0; 0–0.999
조명 광원	일반; 일반, 환형, 쌍극, 사중극, 픽셀 광원
디포커스 목록 (nm)	0; 값 1–32개
임계값 (Iref = 1)	0.5; 0.001 이상
출력 격자 너비, 출력 격자 높이	각각 64; 2~512의 정수

고급 광학 설정

명시적 광학 데이터 (JSON)에는 stack, absorber, chiefRayDeg, polarization, transport 및 reflectionPlaneNm이 포함됩니다. 주변 매질의 굴절률은 {re: 1, im: 0}이며, 편광은 x 또는 y, 전달 방식은 ideal-vector-v1 또는 euvlitho-vector-v1입니다.

제르니케 (JSON)은 최대 37개의 항을 받으며, 서로 다른 1~37의 Noll 인덱스와 파장 단위 coefficientWaves를 사용합니다. 픽셀 광원 점 (JSON)은 단위 동공 안의 점 1–256개를 받으며, 가중치는 음이 아닌 값이고 합은 양수여야 합니다.

수치 계산 (JSON; null은 엔진 기본값)은 null 또는 2나 3의 refinements를 받으며, 선택 항목인 method에는 abbe, hopkins 또는 socs를 사용할 수 있습니다. 마스크 샘플링 (JSON; null은 엔진 기본값)은 null, 연속 샘플링 또는 정수 너비와 높이가 1~8192인 픽셀 샘플링을 받습니다.

클립 계획

광학 요청

고급 광학 설정

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