Tham số clip EUV
Tra cứu giá trị mặc định của kế hoạch clip và giá trị yêu cầu quang học cho tạo ảnh EUV cục bộ.
Tài liệu tham chiếu này áp dụng cho vFactory trên Cloud 2.1.2.10 và Windows 2.1.2.3.
Vùng cắt EUV thiết lập tạo ảnh cục bộ cho hình học GDS đã nhập. Hình học và lát cắt dùng nm trên mặt nạ. Cung cấp quang học tường minh để tạo ảnh cục bộ.
Lập kế hoạch clip
Bộ lập kế hoạch làm tròn halo lên thành số nguyên lần khoảng raster. Một lần chạy chấp nhận tối đa 64 ô.
Trường | Giá trị ban đầu sau khi nhập |
|---|---|
Lớp và kiểu dữ liệu | Lớp của đa giác đầu tiên đã nhập. |
X vùng (nm mặt nạ), Y vùng (nm mặt nạ) | Giá trị X và Y nhỏ nhất của đa giác đầu tiên đã nhập. |
Chiều rộng vùng (nm mặt nạ), Chiều cao vùng (nm mặt nạ) | Kích thước của đa giác đầu tiên, giới hạn trong 4–512 nm trên mỗi trục. |
Độ phân giải raster (nm mặt nạ) | 4 |
Vùng đệm (nm mặt nạ) | 32 |
Kích thước ô (nm mặt nạ) | 512 |
Yêu cầu quang học
Các khoảng dưới đây là giá trị hiển thị trong ô nhập số. Giá trị mất nét là các số hữu hạn khác nhau, phân tách bằng dấu phẩy.
Trường | Giá trị ban đầu; giá trị đầu vào |
|---|---|
Bước sóng (nm) | 13,5; từ 0,001 |
Khẩu độ số | 0,33; 0,001–0,55 |
Tỷ lệ che khuất | 0; 0–0,999 |
Nguồn chiếu sáng | Thông thường; Thông thường, Dạng vành khuyên, Lưỡng cực, Tứ cực, Nguồn điểm ảnh |
Danh sách độ lệch tiêu (nm) | 0; 1–32 giá trị |
Ngưỡng (Iref = 1) | 0,5; từ 0,001 |
Chiều rộng lưới đầu ra, Chiều cao lưới đầu ra | Mỗi chiều 64; số nguyên từ 2 đến 512 |
Thiết lập quang học nâng cao
Dữ liệu quang học tường minh (JSON) chứa stack, absorber, chiefRayDeg, polarization, transport và reflectionPlaneNm. Chiết suất môi trường là {re: 1, im: 0}; phân cực là x hoặc y; truyền tải là ideal-vector-v1 hoặc euvlitho-vector-v1.
Đa thức Zernike (JSON) chấp nhận tối đa 37 số hạng với các chỉ số Noll khác nhau từ 1 đến 37 và coefficientWaves tính bằng bước sóng. Điểm nguồn điểm ảnh (JSON) chấp nhận 1–256 điểm trong đồng tử đơn vị, có trọng số không âm và tổng dương.
Tham số số học (JSON; null dùng mặc định của bộ máy) chấp nhận null, hoặc refinements bằng 2 hay 3 với method tùy chọn là abbe, hopkins hoặc socs. Lấy mẫu mặt nạ (JSON; null dùng mặc định của bộ máy) chấp nhận null, lấy mẫu liên tục hoặc lấy mẫu pixel với chiều rộng và chiều cao là số nguyên từ 1 đến 8192.
Hướng dẫn liên quan
Dùng vFactory: khám phá fab và theo dõi thiết kế đến wafer
Bố trí fab tham chiếu, dữ liệu quy trình và kết quả sử dụng các giả định minh họa.