瞭解 EUV 結構模型與計算

vFactory 的 EUV 結構視圖與計算工具回答不同的問題。兩者皆可在 Cloud 與 Windows 應用程式中使用。

使用 vFactory：探索晶圓廠並追蹤設計到晶圓的流程

結構模型呈現的內容

參考晶圓廠 的內部視圖呈現教學用的掃描機重建模型，可協助您沿著光路查看並辨識元件。

模型的幾何形狀與元件配置依據公開資訊與假設建立。在內部視圖中選擇 來源，即可閱讀參考資料。

光學預算計算的內容

EUV 計算 使用您提供的光源、多層膜、劑量、掃描與光子輸入值，計算光路上的功率、平面光學響應，以及光子數與理想卜瓦松變異數。

變更輸入值會清除先前的結果。請重新計算，以取得新輸入值的結果。

搭配假設閱讀結果

在 Cloud 上，展開 來源與假設，查看各輸入值的來源或假設。在 Windows 上，查看各輸入值範圍旁的標籤。比較計算結果時，請一併保留輸入值。

結構視圖說明模型的配置；預算則提供對應輸入值的計算數值。閱讀時，請分別參照各自的假設。

結構模型是重建模型，計算結果取決於所提供的假設；兩者皆非真實掃描機或晶圓廠的測量結果。